发烧就赶紧给它吃药，上海实施设试退烧、消炎。

6.本发明的优点也可以说是该发明带来的有益效果，静安也是更为宏观的、概括性的叙述该技术或产品要解决的问题。例如新产品的外观造型、区碳区虚外部包装的形状等。

发明专利：达峰点授权时间在两年左右，慢者甚至三年。三、推动技术交底书（发明、推动实用新型）我们很多专利都是委托给专利事务所的专利代理人来撰写，这个时候就需要将我们的技术成果有效地传达给专利代理人，专利代理人首先会给我们一份技术交底书让我们填写。例如机械结构、南京拟电电路结构等。

通常来说，西路作为科研人员，还是提倡申请含金量比较高的发明专利，而且我们既然能够发论文，成果一般也是符合发明专利的要求的。专利申请虽然可以交给专利事务所来处理，厂建但是由于专利代理人的学科知识有限，厂建我们作为发明创造人，才是最了解我们发明成果的创新之处和所要呈现给大家的产品或方法，所以我们了解一些专利的相关知识能够提高我们专利授权的成功率。

应该结合机械结构图、上海实施设试原理框图、电路图或者时序图进行说明。

而且对在学校读研究生的小伙伴们来说，静安在历经千辛万苦，静安九九八十一难之后才有可能得到的珍贵的研究成果一定要好好利用，巴不得分成好几部分来分别投稿，却往往忽略了专利这个方向。（c）SiNP-50电极和Si@CNT/C微型卷轴电极（Si-74、区碳区虚85和92）在0.2Ag-1的电流密度下的循环稳定性。

达峰点在硅含量高达85％的负极在0.2Ag-1的电流密度下可提供2710mAhg-1的高容量。 图五、推动Si@CNT/C微型卷轴电极的电化学性能（a）Si@CNT/C微型卷轴电极和传统方式制备的硅纳米粒子电极第一个放电-充电电压曲线。

南京拟电（d）Si-85电极相对于Li/Li+的0.01到2V的电位窗口以0.2到5Ag-1的不同倍率循环下的电压曲线。实际上，西路为了保持电极的完整性，工业上不得不在商用负极中使用相对少量的Si（质量百分比15％），这样低的Si含量严重削弱了硅材料的容量优势。